默克 (Merck) AZ® 品牌提供全系列半導體黃光製程材料,包括 i-line/g-line 光阻、KrF 厚膜光阻、BARC 底層抗反射塗層、以及專利 TARC、Shrink 技術。為先進封裝、矽光子與 MEMS 提供高解析度與高良率的關鍵方案。。
https://www.merckgroup.com/en/expertise/electronics/technologies/patterning1.html