EM RESIST 專注於開發高解析度電子束微影 (EBL) 材料。提供工業標準 PMMA 正阻膠、具備優異抗蝕性的 HSQ（H-SiOx 氫倍半矽氧烷）、 負型光阻，以及專利 SML 高長寬比光阻。廣泛應用於半導體、矽光子、MEMS 及奈米壓印技術，助力頂尖奈米加工製程。
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